TC4鈦合金手機、手表、平板等殼/框產(chǎn)品拋光工藝
2023-06-08 16:36:44
一、材料性質(zhì)：TC4鈦合金具有優(yōu)良的耐蝕性、小的密度、高的比強度及較好的韌性。
二、TC4鈦合金拋光理論：由于TC4鈦合金具有優(yōu)良的耐蝕性，采用普通的CMP化學(xué)機械拋光工藝很難解決，要靠更強的機械作用切削和優(yōu)良冷卻系統(tǒng)完成。由于TC4鈦合金具有高的比強度及較好的韌性，因此散熱性不好，由此干拋的方式基本不可能達(dá)到鏡面，須采用濕式拋光工藝才行。
三、拋光工藝:
1、粗拋：表面移出量大于30um,才需采用此工工序！最佳方案川菱研磨墊CL-Pad-2080A搭配多晶氧化鋁研磨液CL-TC4-LA15，實測平均移除量可達(dá)8um/min，研磨后產(chǎn)品表面光滑細(xì)膩，無麻點桔皮、無起泡等不良現(xiàn)象。
2、中拋：表面移出量大于10um,才需采用此工工序！最佳方案川菱研磨墊CL-Pad-2080A搭配多晶氧化鋁研磨CL-TC4-LA10，實測平均移除量可達(dá)6um/min，研磨后產(chǎn)品表面光滑細(xì)膩，無麻點桔皮、無起泡等不良現(xiàn)象。
3、拋光：光澤度1800GU，最佳方案川菱研磨墊CL-Pad-5017搭配多晶氧化鋁研磨CL-TC4-PL02，實測平均移除量可達(dá)1um/min，拋光后產(chǎn)品表面黑亮，40X顯微鏡無麻點桔皮、無起泡等不良現(xiàn)象。